Oro · 4N — Sputtering PVD y contactos de potencia

Discos y Targets de Oro

Discos y targets de oro de alta pureza (Au ≥ 99,99 % — 4N) para deposición por pulverización catódica (sputtering PVD). Fabricados con microestructura de grano fino controlada para tasas de erosión uniformes. Disponibles soldados a backing plate de Cu o montaje libre.

• Au ≥ 99,99 % · Grano < 200 µm para tasa de pulverización uniforme
• Densidad relativa ≥ 99,5 % (laminado + recocido de recristalización)
• Backing plate de Cu con bonding de In o unión por difusión
• Control de planitud < 0,1 mm/100 mm para el montaje en cabezal
• Servicio de recompra del target agotado a precio de mercado Au