Barras
Ø 2–80 mm · Mo puro y TZM
Ver detalles →Molibdeno · Laminadas — Targets PVD y sustratos electrónicos
Planchas y láminas de molibdeno laminadas (Mo ≥ 99,95 %) en espesores desde 0,5 mm. Empleadas como targets de sputtering para capas de Mo en células solares CIGS, sustratos para electrónica de potencia y pantallas de horno. Corte a medida por sierra, láser o chorro de agua.
| Espesor | 0,5–30 mm |
|---|---|
| Anchura estándar | hasta 250 mm |
| Longitud estándar | hasta 600 mm |
| Pureza Mo | ≥ 99,95 % |
| Norma principal | ASTM B386 |
| Proceso | Sinterizado + laminado en caliente |
ASTM B386RoHS 2Ø 2–80 mm · Mo puro y TZM
Ver detalles →Ø 0,01–3 mm · Trefilado
Ver detalles →Electrónica de potencia, CEL solar
Ver detalles →Indíquenos dimensiones, grado y cantidad. Respuesta técnica en menos de 24 h.